एफजेड एनटीडी सिलिकॉन वेफर

विवरण

FZ-NTD सिलिकॉन वेफरफ्लोट-जोन न्यूट्रॉन ट्रांसम्यूटेशन डोपेड सिलिकॉन वेफर के रूप में जाना जाता है।ऑक्सीजन मुक्त, उच्च शुद्धता और उच्चतम प्रतिरोधकता सिलिकॉन प्राप्त किया जा सकता है by फ्लोट-ज़ोन FZ (ज़ोन-फ़्लोटिंग) क्रिस्टल ग्रोथ, Hउच्च प्रतिरोधकता FZ सिलिकॉन क्रिस्टल को अक्सर न्यूट्रॉन ट्रांसम्यूटेशन डोपिंग (NTD) प्रक्रिया द्वारा डोप किया जाता है, जिसमें न्यूट्रॉन के साथ फंसे सिलिकॉन आइसोटोप बनाने के लिए अनडॉप्ड फ्लोट ज़ोन सिलिकॉन पर न्यूट्रॉन विकिरण होता है और फिर डोपिंग लक्ष्य को प्राप्त करने के लिए वांछित डोपेंट में क्षय हो जाता है।न्यूट्रॉन विकिरण के स्तर को समायोजित करके, बाहरी डोपेंट को पेश किए बिना प्रतिरोधकता को बदला जा सकता है और इसलिए सामग्री शुद्धता की गारंटी देता है।FZ NTD सिलिकॉन वेफर्स (फ्लोट ज़ोन न्यूट्रॉन ट्रांसम्यूटेशन डोपिंग सिलिकॉन) में समान डोपिंग एकाग्रता और समान रेडियल प्रतिरोधकता वितरण, निम्नतम अशुद्धता स्तर के प्रीमियम तकनीकी गुण हैं,और उच्च अल्पसंख्यक वाहक जीवनकाल।

वितरण

बिजली अनुप्रयोगों का वादा करने के लिए एनटीडी सिलिकॉन के बाजार में अग्रणी आपूर्तिकर्ता के रूप में, और उच्च गुणवत्ता स्तर के वेफर्स की बढ़ती मांगों के बाद, बेहतर एफजेड एनटीडी सिलिकॉन वेफरवेस्टर्न मिनमेटल्स (एससी) कॉर्पोरेशन में दुनिया भर में हमारे ग्राहकों को 2″, 3″, 4″, 5″ और 6″ व्यास (50 मिमी, 75 मिमी, 100 मिमी, 125 मिमी और 150 मिमी) और प्रतिरोधकता की विस्तृत श्रृंखला से लेकर विभिन्न आकारों में पेश किया जा सकता है। 5 से 2000 ohm.cm <1-1-1> में, <1-1-0>, <1-0-0> फोम बॉक्स या कैसेट के पैकेज में कट, लैप्ड, नक़्क़ाशीदार और पॉलिश सतह खत्म के साथ अभिविन्यास , या सही समाधान के लिए अनुकूलित विनिर्देश के रूप में।